利用水合物獨特的物化性質，如儲氣密度高、生成產生相變且相變溫度高、傳熱係數低等，可以開發一係列高新應用技術。水合物的研究領域正在不斷擴大，已從最初石油與天然氣工業中的水合物形成預測與防治擴展到化工、能源和環境保護等領域。對水合物的基礎性研究已非常必要，人們采用和提出了各種不同的方法和措施來增加水合物儲氣量，降低相平衡點，縮短誘導時間，加速水合物的生成。通過實驗添加新型添加劑降低水合物溶液的表麵張力，從而降低水合物的生成條件，促進水合物的生成，對實驗結果進行了分析總結。

1、實驗裝置與實驗方法

實驗裝置采用芬蘭Kibron生產的QBZY-1型全自動小黄片下载安装，此小黄片下载安装采用Wilhelmy盤法測定溶液表麵張力。當感測鉑板浸入被測液體後，鉑板周圍受到表麵張力的作用，液體的表麵張力將鉑板往下拉。當液體表麵張力及其它相關力與平衡力達到均衡時，感測鉑板停止向液體內部浸入，此時儀器的平衡感應器將測量浸入液體的深度，並將其轉化為液體的表麵張力值。

圖1為小黄片下载安装工作係統示意圖。硬件方麵主要包括樣品台、升降係統、數字化測力係統和微處理器。軟件方麵由控製、分析專用軟件經過微處理器的一係列運算，將檢測到的微力轉化成表麵張力值。由LCD數字顯示屏實時輸出表麵張力值，如果需要，可通過RS232接口連接打印機，打印數據或經計算機采集相應數據。該裝置結構簡單，操作簡便，準確性高。

圖1小黄片下载安装係統示意圖

2、實驗結果及分析

2.1濃度對表麵張力的影響

圖2為3、5、7、10、12℃下，陰離子表麵活性劑CTAB溶液的表麵張力隨濃度變化示意圖。由圖2可知，CTAB是比較優良的表麵活性劑，在低濃度下就能夠顯著降低溶液表麵張力，在300 mg/kg-1時表麵張力達到最低值，之後隨濃度增大，表麵張力變化不大，因此CTAB的臨界膠束濃度CMC即在此濃度範圍附近。在所測溫度範圍內，當CTAB溶液達到CMC以後，表麵張力值在14.5～23.5 mN/m之間。隨溫度變化，表麵張力值相差較大。

圖2不同溫度下CTAB溶液表麵張力隨濃度的變化

圖3為3、5、7、10、12℃下，非離子型表麵活性劑P123溶液的表麵張力隨濃度變化示意圖。由圖3可知，P123在低濃度下就能夠顯著降低溶液表麵張力，在400 mg/kg時表麵張力達到最低值，之後隨濃度增大，表麵張力變化不大，因此CTAB的臨界膠束濃度CMC即在此濃度範圍附近。在所測溫度範圍內，當P123溶液達到CMC以後，表麵張力值在40.5～45.5 mN/m之間。隨溫度變化，表麵張力值相差較大。

圖4為3、5、7、10、12℃下，本實驗自行合成的離子液體［HMIPS］Ss溶液的表麵張力隨濃度變化示意圖。由圖4可知，該離子液體溶液不具有明顯的表麵活性，不能顯著降低溶液表麵張力。在所測溫度範圍內，表麵張力值在73.6～74.8 mN/m之間。隨溫度變化，表麵張力值相差很小。

圖3不同溫度下P123溶液表麵張力隨濃度的變化

圖4不同溫度下［HMIPS］Ss溶液表麵張力隨濃度的變化

2.2溫度對表麵張力的影響

圖5不同濃度的CTAB溶液表麵張力隨溫度的變化

圖5為100、200、300、500、700、900 mg/kg濃度下，陰離子表麵活性劑CTAB溶液的表麵張力隨溫度變化示意圖。由圖5可知，300 mg/kg溶液的表麵張力曲線最低，說明該濃度的溶液表麵活性最強。在所測溫度範圍內，隨溫度升高表麵張力變化較大，整體上表麵張力曲線呈波浪狀，出現拐點。6條曲線在3℃時均出現最低表麵張力值，在5℃附近均出現波峰；100、500和900 mg/kg溶液在7℃附近時出現波穀，10℃附近再次出現波峰；200、300和700 mg/kg溶液在10℃附近出現波穀。

圖6為100、200、300、500、700、900 mg/kg濃度下，非離子表麵活性劑P123溶液的表麵張力隨溫度變化示意圖。由圖6可知，隨濃度增大，溶液降低表麵張力的能力逐漸增大，但各個濃度曲線差值不大，900 mg/kg濃度溶液表麵活性最強。在所測溫度範圍內，整體上表麵張力曲線幾乎呈直線狀，遵循隨溫度升高而表麵張力降低的一般規律，斜率幾乎不變，未出現拐點，且相差較大，同一條曲線3℃和12℃表麵張力值相差4.2～4.6 mN/m。

圖6不同濃度的P123溶液表麵張力隨溫度的變化

圖7為100、300、500、700、900、1 200 mg/kg濃度下，本實驗自行合成的離子液體［HMIPS］Ss溶液的表麵張力隨溫度變化示意圖。在低溫區間內300 mg/kg溶液的表麵張力曲線最低，說明該濃度的溶液表麵活性最強。在所測溫度範圍內，整體上表麵張力曲線遵循隨溫度升高而表麵張力降低的一般規律，但相差不大，同一條曲線3℃和12℃表麵張力值相差0.9～1.1 mN/m。

比較以上實驗結果發現，其中降低水合物溶液表麵張力效果最好的為300 mg/kg CTAB，然後依次為500 mg/kg P123、300 mg/kg［HMIPS］Ss。對於同一種添加劑，其降低溶液表麵張力的能力受到濃度以及溫度的影響，而其溶液降低水合物生成相平衡條件的最佳濃度與同一溫度區間內降低自身表麵張力效果最顯著的濃度相一致，即一種促進劑溶液，在某濃度及溫度下表麵張力愈小，降低水合物生成條件愈顯著。

圖7不同濃度的［HMIPS］Ss溶液表麵張力隨溫度的變化

3、結論

水合物促進技術的研究目前尚未深入，重點在於新型添加劑的開發，通過研究CTAB、P123、［HMIPS］Ss這幾種新型添加劑在不同濃度和溫度下對水合物溶液表麵張力的影響，找到改善水合物生成條件的辦法，即降低溶液表麵張力從而降低水合物的生成條件，為今後水合物促進技術的研究提供了理論和數據支持。另外，應該了解化學添加劑特殊的分子結構對水合物生成的影響，有針對性地合成新型的水合物生成促進劑。例如合成以HMIPS基團為前體的十二烷基苯磺酸鹽（［HMIPS］SDBS），使之同時具有離子液體和表麵活性劑的作用機理，相信會比單一添加劑的促進效果更加優良。